Óxido de níquel: Material avançado para aplicação em supercapacitores

O Capítulo 3 descreve a metodologia utilizada na síntese de eléctrodos de película fina de óxido de níquel através de uma via aquosa, com destaque para a manipulação dos parâmetros preparativos, incluindo ingredientes, concentrações, temperaturas de decomposição e volumes de solução. A análise termogravimétrica inicial do nitrato de níquel hexa-hidratado indicou a formação de resíduos estáveis para além de 573 K. As experiências subsequentes foram efectuadas variando as concentrações da solução de pulverização de 0,2 M para 1,0 M, mantendo a temperatura de deposição e a velocidade de pulverização constantes a 623 K e 2 ml/min, respetivamente. A otimização seguinte foi conseguida explorando várias temperaturas de decomposição (entre 623 K e 723 K), mantendo uma velocidade de pulverização constante de aproximadamente 2 ml/min, utilizando a concentração óptima previamente identificada (0,8 M).8 M). As condições optimizadas (0,8 M e 673 K) foram subsequentemente aplicadas a deposições de película, com o volume da solução como parâmetro variável, variando de 30 a 110 ml. A análise eletroquímica do elétrodo AV-1 optimizado foi realizada utilizando diferentes electrólitos, ou seja, KCl, LiCl2, Na2SO4, NaOH e KOH.