Principles and Practice of Thin-Film Deposition: Fundamentals, Process Engineering, Industrial Applications PVD, CVD, ALD, Sputtering Technologies

1/1
Afbeelding van Principles and Practice of Thin-Film Deposition: Fundamentals, Process Engineering, Industrial Applications PVD, CVD, ALD, Sputtering Technologies
Bol
Prijzen vanaf
139,00

Uitgelicht

VERGELIJK ALLE AANBIEDERS (3)

Beschrijving

Amazon Pagina's: 388, Paperback, Independently published
Description Beschrijving
Product Specifications Productspecificaties
Price History Prijshistorie
Gerelateerde resultaten Gerelateerde resultaten
Next
Previous

Vergelijk aanbieders (3)

Shop
Prijs
Verzendkosten
Totale prijs
Bol Logo
139,00
Gratis
139,00
Naar shop
Gratis Shipping Costs
Amazon Logo
150,67
Gratis
150,67
Naar shop
Gratis Shipping Costs
Amazon Marketplace Logo
150,67
Gratis
150,67
Naar shop
Gratis Shipping Costs
Beschrijving (1)

Pagina's: 388, Paperback, Independently published

Productspecificaties

Merk Independently Published
EAN
  • 9798186673842
Maat

Prijshistorie

* Prijshistorie bevat geen data van Amazon, Amazon Marketplace.

Prijzen voor het laatst bijgewerkt op:

Wiley

Radio Frequency Sputtering: Thin Film Deposition and Device Applications

148,69
Vergelijk 2 shops 2 shops

Thin Films Fundamentals, Deposition Techniques and Applications: Applications

139,00
Meer informatie Meer info

Woodhead Publishing Reviews: Mechanical Engineering Series Nanostructured Thin Film Deposition by Sputtering

155,00
Meer informatie Meer info

Principles of Engineering Tribology: Fundamentals and Applications

157,49
Meer informatie Meer info
Uitgelichte Keuze
139,00
Naar shop