Deposição de camada atómica melhorada por plasma nitreto gálio alta qualidade

Este livro investiga os processos e métodos de preparação de películas finas de nitreto de gálio de alta qualidade em diferentes substratos, utilizando a tecnologia de deposição de camada atómica melhorada por plasma. Ao introduzir uma intercamada de nitreto de alumínio e um pré-tratamento com plasma de azoto em substratos de silício, o teor de impurezas de oxigénio nas películas foi significativamente reduzido e a qualidade da interface foi melhorada. Em substratos de safira, o nitreto de gálio monocristalino de alta qualidade foi cultivado epitaxialmente a baixas temperaturas através de uma combinação de cozedura e pré-tratamento com plasma de azoto. As películas policristalinas de nitreto de gálio com interfaces nítidas foram depositadas diretamente em substratos de quartzo, e a sua aplicação em células solares de perovskite levou a um aumento substancial da eficiência de conversão. Esta investigação fornece uma base experimental e um apoio metodológico importantes para a preparação controlável de películas finas de nitreto de gálio de alta qualidade a baixa temperatura e para as suas aplicações em dispositivos optoelectrónicos.

Pagina's: 128, Paperback, Edições Nosso Conhecimento